一种半导体无废水排放清洗设备

基本信息

申请号 CN202022341208.3 申请日 -
公开(公告)号 CN212907672U 公开(公告)日 2021-04-06
申请公布号 CN212907672U 申请公布日 2021-04-06
分类号 H01L21/67(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 凡青松 申请(专利权)人 苏州恩斯泰金属科技有限公司
代理机构 苏州欣达共创专利代理事务所(普通合伙) 代理人 刘盼盼
地址 215000江苏省苏州市吴中区木渎镇金枫南路1258号4幢
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种半导体无废水排放清洗设备,包括壳体,所述壳体内横向固定安装有放置板,所述放置板的左右两端分别固定安装在壳体的内壁上,所述放置板的上方设置有清洗机构,所述放置板的上端面等间距的开设有多个放置槽,每个所述放置槽内均放置有半导体本体,每个所述半导体本体的上表面与放置板的上表面相平齐,所述放置板的中心处开设有排水口,所述排水口的正下方设置有排水漏斗。本实用新型,过滤网兜会对排出的清洗液进行初级的过滤,过滤后的清洗液会落入储水槽内,并经过多个过滤网板的次级过滤后,再次被水泵抽入输水管内从喷头喷出,如此循环,使得清洗液得到充分的循环利用,避免了浪费。