柱状磁控溅射器
基本信息
| 申请号 | CN200610062227.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN101126152B | 公开（公告）日 | 2010-04-21 |
| 申请公布号 | CN101126152B | 申请公布日 | 2010-04-21 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 许生;徐升东;谭晓华 | 申请（专利权）人 | 豪威星科薄膜视窗（深圳）有限公司 |
| 代理机构 | 深圳新创友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 深圳豪威真空光电子股份有限公司;深圳豪威科技集团股份有限公司 |
| 地址 | 518054 广东省深圳市南山区深南大道市高新技术工业村W1A区一楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种柱状磁控溅射器，包括靶筒、弧形屏蔽罩和磁极装置，弧形屏蔽罩位于靶筒的侧面，所述磁极装置包括板状磁轭、在板状磁轭上同平面平行排列固定的一对侧面磁钢和中间磁钢、位于侧面磁钢与中间磁钢之间的中间间隔条，所述板状磁轭平行排列固定在与弧形屏蔽罩相对的靶筒的另一侧面。进一步，在所述中间磁钢的上下端部增设有增强磁钢，增强磁钢的靠近端面的高度低于增强磁钢的靠近中间磁钢端面的高度。本发明通过设置增强磁钢，克服了现有磁极排布会造成端部的磁场弱于中间的磁场的缺陷，使得整个靶面的水平磁场更加均匀，有利于整个靶刻蚀的均匀性而且形成了完整闭合的磁路，靶材的利用率得到了进一步的提高。 |
