一种带有下料功能的全自动硅片清洗机
基本信息
| 申请号 | CN202122606313.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN216460411U | 公开（公告）日 | 2022-05-10 |
| 申请公布号 | CN216460411U | 申请公布日 | 2022-05-10 |
| 分类号 | B08B3/02（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I;B65G49/06（2006.01）I | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 洪布双;何飞;蔡鹏 | 申请（专利权）人 | 江苏德润光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 南京申云知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 225600江苏省扬州市高邮经济开发区凌波路 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了硅片清洗设备技术领域的一种带有下料功能的全自动硅片清洗机，包括：设备本体与罩体，所述罩体安装在设备本体的顶部壁上，所述罩体内腔顶部安装有清洗机构，所述设备本体内腔顶部安装有传输机构，所述设备本体顶部壁开设有集液槽，所述排液通道内腔右侧顶部安装有挡板，且挡板为排渣通道的上方，且挡板左端倾斜向上设置，装置中通过挡板对下落的清洁液和残片进行阻拦，使残片在挡板上方沉积，清洁液会从挡板上方溢出落到集液箱中，由挡板对残片进行收放，使残片实际下落的距离减小，减小残片下落时受到的冲击力，使残片发生破碎的几率降低，使残片进入到集液箱中的几率降低。 |
