一种带有凸起结构的化学机械抛光垫
基本信息
| 申请号 | CN202020630116.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN211992444U | 公开（公告）日 | 2020-11-24 |
| 申请公布号 | CN211992444U | 申请公布日 | 2020-11-24 |
| 分类号 | B24B37/26(2012.01)I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 朱文献 | 申请（专利权）人 | 昂士特科技（深圳）有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市中科创为专利代理有限公司 | 代理人 | 昂士特科技（深圳）有限公司 |
| 地址 | 518000广东省深圳市南山区桃源街道长源社区学苑大道1001号南山智园C3栋201 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种带有凸起结构的化学机械抛光垫，包括：抛光垫基板和均匀分布设置在所述抛光垫基板上的若干凸起，相邻的两所述凸起间隔设置形成有沟槽；每一所述凸起的顶面呈内凹球面或外凸球面设置；所述内凹球面或所述外凸球面的半径小于所述凸起的高度。本实用新型技术方案利用凸起顶部的内凹球面或者外凸球面以增加抛光垫有效面积，提高材料去除效率；凸起之间的沟槽利于抛光液均匀分配和流动。 |
