一种具有工件摆动装置的化学机械抛光设备
基本信息
| 申请号 | CN202020554303.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN211992443U | 公开（公告）日 | 2020-11-24 |
| 申请公布号 | CN211992443U | 申请公布日 | 2020-11-24 |
| 分类号 | B24B37/10(2012.01)I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 朱文献 | 申请（专利权）人 | 昂士特科技（深圳）有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市中科创为专利代理有限公司 | 代理人 | 昂士特科技（深圳）有限公司 |
| 地址 | 518000广东省深圳市南山区桃源街道长源社区学苑大道1001号南山智园C3栋201 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种具有工件摆动装置的化学机械抛光设备，包括：工作台、转盘、砝码组、限位环和摆动组件，工作台中部开设有容纳转盘的避位开口，转盘转动设置在避位开口内，转盘上设置有抛光垫，限位环设置在抛光垫上，砝码组设置在限位环内，砝码组用于压紧工件；摆动组件包括悬臂、两弹簧组件、旋转支架和转轴，两弹簧组件对称设置在工作台上，且位于避位开口的一侧；转轴可转动地设置在工作台上，且位于两弹簧组件的中部，旋转支架固定在转轴上，悬臂刚性连接在旋转支架上；悬臂远离旋转支架的一侧向内凹设有圆弧槽，圆弧槽的两端设置有滚轮，两滚轮与限位环抵接。本实用新型技术方案简单实用，旨在改善提高化学机械抛光工艺的均匀性。 |
