一种流体控温式的化学机械抛光平台
基本信息
| 申请号 | CN202020439161.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN211805514U | 公开（公告）日 | 2020-10-30 |
| 申请公布号 | CN211805514U | 申请公布日 | 2020-10-30 |
| 分类号 | B24B37/11(2012.01)I | 分类 | - |
| 发明人 | 王家雄 | 申请（专利权）人 | 昂士特科技（深圳）有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市中科创为专利代理有限公司 | 代理人 | 昂士特科技（深圳）有限公司 |
| 地址 | 518000广东省深圳市南山区桃源街道长源社区学苑大道1001号南山智园C3栋201 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种流体控温式的化学机械抛光平台，包括：具有中空腔的抛光盘、具有流体通道的旋转轴、圆筒底座、进液管和流体恒温反应器；所述抛光盘中心底部设置有连接座，所述连接座与所述旋转轴顶部紧密连接，所述连接座内开设有连接所述中空腔和所述流体通道的连接腔，所述旋转轴通过防水轴承设置在所述圆筒底座上，所述进液管的一端依次穿过所述圆筒底座、所述流体通道和所述连接腔，并位于所述中空腔内；所述圆筒底座还开设有与所述流体通道连通的流体出口；所述流体出口和所述进液管远离所述抛光盘的一端分别与所述流体恒温反应器连接。本实用新型技术方案旨在实现精准控制抛光温度的目的。 |
