一种化学机械抛光垫
基本信息
| 申请号 | CN202020635635.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN211992445U | 公开（公告）日 | 2020-11-24 |
| 申请公布号 | CN211992445U | 申请公布日 | 2020-11-24 |
| 分类号 | B24B37/26(2012.01)I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 朱文献 | 申请（专利权）人 | 昂士特科技（深圳）有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市中科创为专利代理有限公司 | 代理人 | 昂士特科技（深圳）有限公司 |
| 地址 | 518000广东省深圳市南山区桃源街道长源社区学苑大道1001号南山智园C3栋201 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种化学机械抛光垫，包括抛光垫基板，抛光垫基板为圆形，抛光垫基板设置有以其中心为圆点的若干同心环形凸起，若干同心环形凸起间隔设置，若干同心环形凸起沿抛光垫基板的径向方向上的宽度一致，若干同心环形凸起沿抛光垫基板的直径方向分隔成均等分的若干凸台，且若干凸台以抛光垫基板的中心为对称点对称设置，同一同心环形凸起上的相邻两凸台之间形成沟槽；每一凸台的顶部呈圆弧通槽或圆弧凸面设置。本实用新型技术方案旨在利用凸台顶部的圆弧通槽或圆弧凸面以增加抛光垫有效面积，提高材料去除效率；同心环形凸起之间的间隔和相邻两凸台之间的沟槽利于抛光液均匀分配和流动。 |
