PDMS薄膜上微米通孔阵列的制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202010436366.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111569667A | 公开（公告）日 | 2020-08-25 |
| 申请公布号 | CN111569667A | 申请公布日 | 2020-08-25 |
| 分类号 | B01D67/00(2006.01)I | 分类 | - |
| 发明人 | 王云翔;李瑾;冒薇;王丰梅 | 申请（专利权）人 | 苏州研材微纳科技有限公司 |
| 代理机构 | 苏州国诚专利代理有限公司 | 代理人 | 韩凤 |
| 地址 | 215121江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区11幢401室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种制备方法，尤其是一种PDMS薄膜上微米通孔阵列的制备方法。其利用基础衬底制备得到柱体阵列，然后利用临时键合胶层实现将PDMS薄膜设置在支撑辅助衬底上，PDMS薄膜与基础衬底上的柱体阵列接触后，将PDMS薄膜与柱体阵列间相互压合，以使得柱体阵列内的孔体柱能贯穿PDMS薄膜，从而在PDMS薄膜与柱体阵列分离后，能在PDMS薄膜内制备得到微米通孔阵列；通过支撑辅助衬底以及临时键合胶层对PDMS薄膜的辅助支撑，从而能有效实现在较薄的PDMS薄膜上制备得到通孔阵列，与现有工艺兼容，降低加工的成本，安全可靠。 |
