一种具有消影功能的纳米银线透明导电膜蚀刻方法
基本信息
| 申请号 | CN201911045622.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110629222B | 公开（公告）日 | 2022-02-18 |
| 申请公布号 | CN110629222B | 申请公布日 | 2022-02-18 |
| 分类号 | C23F1/02（2006.01）I;C23F1/12（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 吕鹏;张梓晗;杨锦;姚成鹏;张运奇;聂彪 | 申请（专利权）人 | 合肥微晶材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 | 代理人 | 卢敏 |
| 地址 | 230088安徽省合肥市高新区黄山路602号A105 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种具有消影功能的纳米银线透明导电膜蚀刻方法，是首先在纳米银线透明导电膜表面设置图案化感光胶层，然后放入等离子体蚀刻仓内进行等离子体蚀刻，再去除蚀刻后导电膜表面的图案化感光胶层并水洗、烘干即可。本发明通过控制蚀刻工艺，使蚀刻区不导电的同时大部分保留下来，从而降低蚀刻区和非蚀刻区的雾度差，达到消影目的，并且本发明的方法操作简单、效率高，易于实现工业化生产。 |
