一种提升PECVD镀膜均匀性的装置
基本信息
| 申请号 | CN202122492175.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN216473476U | 公开（公告）日 | 2022-05-10 |
| 申请公布号 | CN216473476U | 申请公布日 | 2022-05-10 |
| 分类号 | C23C16/50（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 张云鹏;王玉;赵科巍;杨飞飞;梁玲;李雪方 | 申请（专利权）人 | 山西潞安太阳能科技有限责任公司 |
| 代理机构 | 太原市科瑞达专利代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 046000山西省长治市高新区漳泽新型工业园区 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及太阳能电池生产领域，一种提升PECVD镀膜均匀性的装置，该装置安装在PECVD的炉管的口部内侧，包括双层管状结构、加强板，双层管状结构的夹层两端面密封，双层管状结构一端夹层密封面上有小孔，加强板有3‑4块，每块都加强板处于双层管状结构的外侧周壁上，且所有加强板处于同一个圆的圆周上，每块加强板上有一个贯穿加强板和双层管状结构外壁的带内螺纹的第一通孔，PECVD的炉管有与第一通孔配合的带螺纹的第二通孔，进气装置通过连接连接安装在第一通孔和第二通孔上。 |
