一种基于低浴比短流程的染整装置
基本信息
| 申请号 | CN201920026107.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN209508627U | 公开（公告）日 | 2019-10-18 |
| 申请公布号 | CN209508627U | 申请公布日 | 2019-10-18 |
| 分类号 | D06B3/10（2006.01）I; D06B15/00（2006.01）I; D06B23/20（2006.01）I | 分类 | 织物等的处理；洗涤；其他类不包括的柔性材料; |
| 发明人 | 金辉 | 申请（专利权）人 | 浙江金莱利印染有限公司 |
| 代理机构 | 北京科亿知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 汤东凤 |
| 地址 | 312071 浙江省绍兴市袍江江中路217号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种基于低浴比短流程的染整装置，包括底座，底座顶端固定安装有U型支撑架，U型支撑架的顶端固定安装有储液箱，U型支撑架的底端两侧均固定安装有电动伸缩杆，两个电动伸缩杆的伸缩端与筛网顶端的两侧固定连接。本实用新型一种基于低浴比短流程的染整装置，通过在染色池内部安装加热棒和搅拌轴，有效的防止染料沉淀和便于快速上色；通过电动伸缩杆带动筛网上相移动，便于在染色过后的纺织物表面进行印花；通过在烘干池，内部安装蒸汽喷头，保证印花附着在纺织物表面；通过安装的加热块，有效的将印花过后的纺织物烘干；通过安装的第二电机带动主动轮转动，从而带动从动轮转动，便于实现自动化染整，提高了工作效率。 |
