一种半导体圆晶清洗装置
基本信息
| 申请号 | CN202121815116.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215745180U | 公开（公告）日 | 2022-02-08 |
| 申请公布号 | CN215745180U | 申请公布日 | 2022-02-08 |
| 分类号 | B08B3/10（2006.01）I;B08B3/14（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 张玉光 | 申请（专利权）人 | 江苏沃凯氟精密智造有限公司 |
| 代理机构 | 南京勤行知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 吕波 |
| 地址 | 221600江苏省徐州市沛县河口镇袁圩子村 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种半导体圆晶清洗装置，属于半导体技术领域，包括支撑板，所述支撑板一侧安装有电机，所述电机一端固定连接轴承，所述轴承一端固定连接连接杆，所述连接杆一侧安装有转动架，本实用新型通过电机带动很多个放置槽来转动，通过旋转的方式使得半导体晶圆能够在清洗时进行全方位的清洗效果，同时在带动半导体晶圆进行转动的时候也可以通过转动的动力效果来提高清洗的效果，通过安装的过滤板a来对其进行过滤的效果，通过回收池内部安装的过滤板b来对其进行进一步的过滤效果，通过水泵连接电源，通过抽水管向回收池过滤后的清洗液进行抽取，通过导水管在将清洗液输送到清洗池内，可以对其进行循环利用的效果，降低清洗成本。 |
