含H酸结构双偶氮型耐晒酸性染料及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN201910293111.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110079119B | 公开（公告）日 | 2019-08-02 |
| 申请公布号 | CN110079119B | 申请公布日 | 2019-08-02 |
| 分类号 | C07D211/46(2006.01)I | 分类 | - |
| 发明人 | 崔志华;陈小勇;孙岩峰;杨福良 | 申请（专利权）人 | 江苏吉华化工有限公司 |
| 代理机构 | 杭州中成专利事务所有限公司 | 代理人 | 金祺 |
| 地址 | 310000浙江省杭州市杭州经济技术开发区M6-5-1地块 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明属于化工领域，具体涉及含H酸结构双偶氮型耐晒酸性染料及其制备方法。该制备方法为：步骤1)、五甲基哌啶醇的氯化反应，从而制备获得氯化中间体产物HALS‑Cl；步骤2)、HALS‑Cl与含H酸结构的双偶氮型酸性染料缩合，最终得到作为产物的含H酸结构双偶氮型耐晒酸性染料。本发明针对含H酸结构的双偶氮型酸性染料耐晒牢度偏低的问题，在染料结构中偶氮键相邻位置同时引入两个受阻胺光稳定片段，并将羟基和氨基分别转化为了醚键(‑O‑)和亚氨基(‑NH‑)，有效避免了氨基(‑NH2)或羟基(‑OH)的氧化反应，同时实现了双偶氮键的近距离保护，从而开发出一系列耐晒牢度优异的双偶氮型酸性染料。 |
