一种抛光垫
基本信息
| 申请号 | CN202111506323.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114193319A | 公开（公告）日 | 2022-03-18 |
| 申请公布号 | CN114193319A | 申请公布日 | 2022-03-18 |
| 分类号 | B24B37/22（2012.01）I;B24B37/10（2012.01）I;B24B37/24（2012.01）I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 罗乙杰;张季平;高越;刘敏 | 申请（专利权）人 | 湖北鼎龙控股股份有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 430057湖北省武汉市经济技术开发区东荆河路1号411号房 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种抛光垫，其中，抛光垫中的缓冲层在施加压力F0后的应力松弛阶段t时刻的回复力Ft与施加压力F0的比值与t满足如下式（1）中的拟合关系，其中，0≤t≤30s，所述a、b为常数，且满足：0.01≤a≤0.1和/或1.0≤b≤1.1，式（1）的拟合优度R2≥0.95，满足上述拟合关系的缓冲层制备而来的抛光垫，去除速率曲线及边缘去除速率在抛光垫的整个生命周期内均保持稳定，波动较小，研磨速率不均一性NU值较低且波动较小。f（t）＝Ft/F0＝‑a·ln（t）+b （1）。 |
