用于制备空气桥的掩膜
基本信息
| 申请号 | CN202120519829.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214378328U | 公开（公告）日 | 2021-10-08 |
| 申请公布号 | CN214378328U | 申请公布日 | 2021-10-08 |
| 分类号 | H01L21/027（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 李广亮;马亮亮;尤兵;王念慈;郑杰;刘文书 | 申请（专利权）人 | 合肥本源量子计算科技有限责任公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 230088安徽省合肥市合肥市高新区创新大道2800号创新产业园二期E2楼六层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请公开了用于制备空气桥的掩膜，属于量子器件、传统集成电路加工技术领域。它包括沿着共面波导传输线的信号传输方向等间距分布的图案单元，所述图案单元包括：桥撑，所述桥撑位于待连接区域之间，且用于承载沉积的材料以形成空气桥面；及沉积窗，所述沉积窗暴露出所述桥撑，且所述沉积窗和所述桥撑之间形成用于暴露出所述待连接区域的间隙，所述间隙用于限定沉积的材料以形成与所述空气桥面连接的桥墩。本申请解决现有技术中的不足，它能够用于制备横跨共面波导传输线的空气桥。 |
