一种终端结构、半导体器件及制作方法

基本信息

申请号 CN202110651512.4 申请日 -
公开(公告)号 CN113299744A 公开(公告)日 2021-08-24
申请公布号 CN113299744A 申请公布日 2021-08-24
分类号 H01L29/40 分类 基本电气元件;
发明人 李伟聪;林泳浩;姜春亮;王雯沁 申请(专利权)人 珠海市浩辰半导体有限公司
代理机构 深圳市嘉勤知识产权代理有限公司 代理人 帅进军
地址 519000 广东省珠海市高新区唐家湾镇软件园路1号会展中心1#四层5单元
法律状态 -

摘要

摘要 本申请公开了一种终端结构、半导体器件及制作方法,终端结构包括第一导电类型的漂移区,漂移区设置有沟槽、第一导电类型的掺杂区和第二导电类型的第一体区,沟槽包括第一深度区、第二深度区和第三深度区;第一深度区填充介电材料,介电材料中插入第一电极,第二深度区设置有第一多晶硅场板;第一多晶硅场板和第一电极连接第二电极,第三深度区设置有第二多晶硅场板,掺杂区和第二多晶硅场板上设置截止环。该终端结构,第一多晶硅场板防止第一体区与漂移区形成的PN结被提前击穿,第一电极防止第一深度区的底部角落处被提前击穿,第二多晶硅场板防止击穿发生在截止环。该结构在提升终端结构耐压的同时,使终端结构的面积减小。