一种匀胶机涂旋装置
基本信息
申请号 | CN202122791068.4 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN216419984U | 公开(公告)日 | 2022-05-03 |
申请公布号 | CN216419984U | 申请公布日 | 2022-05-03 |
分类号 | B05C5/02(2006.01)I;B05C11/04(2006.01)I;B05C11/10(2006.01)I;B05C13/02(2006.01)I | 分类 | 一般喷射或雾化;对表面涂覆液体或其他流体的一般方法〔2〕; |
发明人 | 王永超;李充;郭城;吕明 | 申请(专利权)人 | 济南科盛电子有限公司 |
代理机构 | 山东瑞宸知识产权代理有限公司 | 代理人 | 杜超 |
地址 | 250200山东省济南市章丘市明水经济开发区明埠路中段西面 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型属于匀胶设备技术领域,尤其是一种匀胶机涂旋装置,针对现有的不便于对胶液进行均匀涂抹,导致厚度不一,并且不便于对不同的基片进行位置固定的问题,现提出如下方案,其包括箱体,所述箱体的内部固定连接有底座,所述底座的顶部开设有环形槽,环形槽的内壁滑动连接有环形块,所述环形块的顶部固定连接有转盘,所述转盘的底部均匀滑动连接有滚珠,滚珠的外壁与底座的外壁滑动连接,所述转盘的外壁开设有四个螺纹孔,本实用新型通过移动板与挡板向下移动带动阻拦板向左移动,阻拦板将落料孔遮住,防止剩余胶水滴落到基片上,刮板移动到一定距离与基片相接触,使胶水均匀涂抹在基片上。 |
