一种真空镀膜用溅射靶座
基本信息
| 申请号 | CN202122936554.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN216404522U | 公开（公告）日 | 2022-04-29 |
| 申请公布号 | CN216404522U | 申请公布日 | 2022-04-29 |
| 分类号 | C23C14/34（2006.01）I;C23C14/50（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 应世强;应佳根 | 申请（专利权）人 | 南京丙辰表面技术有限公司 |
| 代理机构 | 南京普睿益思知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 张丽丽 |
| 地址 | 210000江苏省南京市浦口区浦口经济开发区步月路9号-130 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种真空镀膜用溅射靶座，属于真空镀膜机技术领域，包括正极座和靶材固定架组成的靶材座以及负极座和基片固定架组成的基片座，所述正极座和所述负极座内均镶嵌不同磁极的磁性柱，所述基片固定架和所述负极座之间通过推杆推动可分离，所述推杆通过连接座与所述基片固定架连接，所述连接座通过轴承座与所述基片固定架转动连接，所述轴承座由翻转电机驱动进行转动，使所述基片固定架可沿着长度方向的中轴线翻转。通过将基片固定架设置成可以翻转的结构，使基片的正反两面可以通过翻转朝向靶材固定架，实现双面镀膜，提高了镀膜效率，基片固定架只有通过推杆升起时才能翻转，保证了基片固定架的稳定性。 |
