一种锗基底8-12um红外窗口片及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202010364056.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111443404A | 公开（公告）日 | 2020-07-24 |
| 申请公布号 | CN111443404A | 申请公布日 | 2020-07-24 |
| 分类号 | G02B1/113(2015.01)I;C03C17/00(2006.01)I | 分类 | - |
| 发明人 | 姜海;侯强;刘瑞斌 | 申请（专利权）人 | 沈阳北理高科技有限公司 |
| 代理机构 | 沈阳智龙专利事务所（普通合伙） | 代理人 | 张君男;宋铁军 |
| 地址 | 110044辽宁省沈阳市大东区东站街59号378幢401 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明属于光学薄膜领域，具体涉及一种锗基底8‑12um红外窗口片及其制备方法。窗口片以单晶锗为基底，基底的两侧均镀有单层的增透膜结构，两侧膜结构的入射角均定义为0°±10°。其制备方法是先对基片进行擦拭放置到镀膜机中，再将增透膜材料预熔，再采用真空热蒸发法进行镀膜，单晶锗基底的两侧分别镀有1层增透膜结构，增透膜为硫化锌材料时膜层厚度为1.083‑1.162um，增透膜为KRS‑6材料时膜层厚度为1.090‑1.145um。该窗口片可应用到8‑12um红外探测系统中，也可以用到夜视仪中，因其镀膜设计简单，镀膜材料选择普通，膜层牢固度高等优点，大大降低了窗口片制作的周期与成本。 |
