一种蚀刻液
基本信息
| 申请号 | CN202210023908.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114277374A | 公开（公告）日 | 2022-04-05 |
| 申请公布号 | CN114277374A | 申请公布日 | 2022-04-05 |
| 分类号 | C23F1/30（2006.01）I;H01L51/56（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 李海涛 | 申请（专利权）人 | 肇庆微纳芯材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京开阳星知识产权代理有限公司 | 代理人 | 丁继恩 |
| 地址 | 526200广东省肇庆市四会市江谷镇精细化工区创业路1号甲类厂房编号5 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种蚀刻液，用于平板显示制程中银纳米线透明导电膜的蚀刻处理，属于金属材料表面处理技术领域。所述蚀刻液包含无机酸、有机酸、无机酸盐、表面活性剂、助剂和去离子水，所述助剂含有苯并咪唑类化合物，其结构式如下：其中，R1为C1‑C5的直链或者支链烷烃；R2为氢、C5‑C12芳环基、C5‑C12单环基、C5‑C12二环基或C5‑C12三环基取代基；Ar为苯、萘或蒽结构取代基。该蚀刻液能够高效地对银纳米线透明导电膜进行蚀刻，同时较好地解决了金属银析出的问题。 |
