一种薄膜沉积装置及方法
基本信息
| 申请号 | CN201110167589.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN102839352A | 公开（公告）日 | 2012-12-26 |
| 申请公布号 | CN102839352A | 申请公布日 | 2012-12-26 |
| 分类号 | C23C14/24(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 蒋猛;刘志强;何吉刚 | 申请（专利权）人 | 四川尚德太阳能电力有限公司 |
| 代理机构 | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人 | 黄威;王桂霞 |
| 地址 | 214028 江苏省无锡市新区长江南路17-6号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开一种薄膜沉积装置及方法，薄膜沉积装置用于在衬底上形成薄膜层，包括加热由载气携带的沉积材料的加热模块和向所述加热模块供料的进料总管，所述加热模块包括将所述载气及所述载气携带的沉积材料加热形成混合气体的加热部件及套设在所述加热部件外部的外壳体，所述外壳体与所述加热部件之间形成密封的腔体，所述外壳体开设有使所述混合气体喷出以在所述衬底上形成薄膜层的喷涂口，所述加热部件与所述外壳体之间还设有套在所述加热部件外的扩散管，所述扩散管与所述加热部件之间形成加热腔，所述扩散管具有允许所述混合气体通过的扩散孔。本发明克服了现有的薄膜沉积装置的成膜厚度不一致的缺点，提供一种成膜厚度一致的薄膜沉积装置。 |
