一种酞菁共晶及其制备方法和应用
基本信息
| 申请号 | CN202010360104.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111471051A | 公开（公告）日 | 2021-12-10 |
| 申请公布号 | CN111471051A | 申请公布日 | 2021-12-10 |
| 分类号 | C07D487/22;C07F7/28;G03G5/04 | 分类 | 有机化学〔2〕; |
| 发明人 | 谢锦楼;林日彬 | 申请（专利权）人 | 广州安国科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 广州三环专利商标代理有限公司 | 代理人 | 颜希文 |
| 地址 | 510663 广东省广州市高新技术产业开发区科学城天泰一路2号自编一、二栋二楼全层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种酞菁共晶及其制备方法和应用。所述酞菁共晶是由氧钛酞菁和不含金属的酞菁形成的共晶，其中，氧钛酞菁和不含金属的酞菁的重量比为99:1‑1:99。本发明的酞菁共晶具有比较高的感光度，可作为光生电材料用于制备电子照相成像元件的生电层，且电子照相成像元件的感光度可根据酞菁共晶中氧钛酞菁和不含金属的酞菁的重量比而连续可调。 |
