印刷式半导体晶体管及其形成方法
基本信息
申请号 | CN200910119877.1 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN101840996A | 公开(公告)日 | 2010-09-22 |
申请公布号 | CN101840996A | 申请公布日 | 2010-09-22 |
分类号 | H01L51/40(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L51/05(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 陈怡泽;史方;张扬;李明成 | 申请(专利权)人 | 上海宝致光电技术发展有限公司 |
代理机构 | 北京嘉和天工知识产权代理事务所 | 代理人 | 严慎 |
地址 | 212300 江苏省丹阳市丹金路999号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明设计印刷式半导体晶体管及其形成方法。具体地,一种形成半导体晶体管的方法,包括:在基体上印刷栅极;印刷栅介电膜;印刷源极和漏极;印刷半导体膜;以及形成钝化介电膜。本发明还公开一种印刷式半导体晶体管。本发明的方法可以以印刷方式方便地提供纳米级的半导体晶体管,极大地降低原有成本而同时保持了半导体晶体管的性能,具有广泛的实用性和光明的经济前景;并且本发明的半导体晶体管印刷工艺可以在常温常压下进行,避免了高温真空覆膜工艺和昂贵的光刻工艺,制作也更为简单,从而大幅节省了制造成本,并且也符合当今对于环境保护的需求。 |
