一种提高出光效率的发光二极管芯片制造方法

基本信息

申请号 CN200810203359.3 申请日 -
公开(公告)号 CN101409323B 公开(公告)日 2011-09-21
申请公布号 CN101409323B 申请公布日 2011-09-21
分类号 H01L33/00(2006.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 李有群;涂招莲;岳建水;康建;俞振中 申请(专利权)人 上海大晨光电科技有限公司
代理机构 上海光华专利事务所 代理人 余明伟;冯珺
地址 201206 上海市浦东新区金桥出口加工区云桥路946号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明一种提高出光效率的发光二极管芯片制造方法,其包括步骤一,对发光二极管芯片进行划片至衬底,步骤二,采用扩片工艺对划片后的芯片进行扩片,步骤三,配制NaCLO腐蚀液,所述NaCLO腐蚀液采用体积比为1:9至1:18之间的NaCLO溶液与水配制,该NaCLO腐蚀液的PH值在4-7之间,步骤四,采用上述NaCLO腐蚀液喷洒扩片后的芯片。本发明主要涉及对芯片侧面进行粗化处理,使光线从内部折射出来,从而提高出光效率。