超低压触发器件
基本信息
申请号 | CN202021225167.5 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN212750894U | 公开(公告)日 | 2021-03-19 |
申请公布号 | CN212750894U | 申请公布日 | 2021-03-19 |
分类号 | H01L27/06(2006.01)I;H01L21/8222(2006.01)I;H01L27/02(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 杨珏琳;宋文龙;李泽宏;张鹏 | 申请(专利权)人 | 成都吉莱芯科技有限公司 |
代理机构 | 南京正联知识产权代理有限公司 | 代理人 | 查鑫利 |
地址 | 610000四川省成都市自由贸易试验区成都高新区世纪城南路599号6栋5层505号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 超低压触发器件,包括从下到上依次为背面金属电极、P+衬底层、N型外延层、绝缘介质层、正面金属层,N型外延层端面一边到另一边依次设P+隔离层、N+多晶硅和P型基区;P+隔离层穿通至P+衬底层;N+多晶硅、P型基区两个区域中均设P+源区、N+源区。超低压触发器件的制作方法,包括如下步骤:淀积N型外延层;高温推进形成P+隔离层;淀积N+多晶硅,露出N型外延层;推结形成P型基区;在N+多晶硅、P型基区区域中,形成P+源区,随后光刻注入高浓度N型杂质形成N+源区;淀积绝缘介质层,完成正面金属层;淀积背面金属电极。本发明有效减少成本及触发电压,拥有超低触发电压及强泄放电荷能力。 |
