一种低电容低残压的双向ESD保护器件及其制作方法
基本信息
申请号 | CN202111106081.X | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN113764404A | 公开(公告)日 | 2021-12-07 |
申请公布号 | CN113764404A | 申请公布日 | 2021-12-07 |
分类号 | H01L27/02(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L21/77(2017.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 宋文龙;杨珏琳;张鹏;许志峰 | 申请(专利权)人 | 成都吉莱芯科技有限公司 |
代理机构 | 南京正联知识产权代理有限公司 | 代理人 | 查鑫利 |
地址 | 四川省成都市自由贸易试验区成都高新区世纪城南路599号6栋5层505号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开一种低电容低残压的双向ESD保护器件及其制作方法,包括N型衬底材料、P型外延层、正面金属区和背面金属区,P型外延层顶部设有N型扩散区b,N型扩散区b之间设有P型扩散区,最外侧的N型扩散区b外侧设有N型扩散区a,P型外延层顶部设有隔离介质层。外延工艺在N型衬底材料生长一层P型外延层,生长一层牺牲氧化层,光刻形成N型扩散区图形,磷注入,磷推进,形成N型扩散区,光刻形成P型扩散区图形,硼注入,硼推进,形成P型扩散区,光刻形成N型扩散区图形,磷注入,磷推进,形成N型扩散区,正面淀积隔离介质层,光刻形成接触孔区,正面金属化,背面金属化。在背面金属接触基板的的时候,有利于散热,保证产品的性能。 |
