一种多源离子喷射源非原位沉积生产高温超导带材的方法专利查询专利号|摘要-满商公司网

一种多源离子喷射源非原位沉积生产高温超导带材的方法

基本信息

申请号	CN202010682239.7	申请日	-
公开（公告）号	CN111785443B	公开（公告）日	2021-09-21
申请公布号	CN111785443B	申请公布日	2021-09-21
分类号	H01B13/00（2006.01）I;H01B12/00（2006.01）I	分类	基本电气元件;
发明人	赵跃;师江涛;程春生;姜广宇;朱佳敏;金之俭	申请（专利权）人	上海超导科技股份有限公司
代理机构	上海段和段律师事务所	代理人	李佳俊;郭国中
地址	201207上海市浦东新区自由贸易试验区芳春路400号1幢3层301-15室
法律状态	-

摘要

本发明公开了一种多源离子喷射源非原位沉积生产高温超导带材的方法，属于超导带材的制备工艺技术领域，包括以下步骤：利用多源离子喷射轰击靶材，在有双轴织构的缓冲层带材经过靶材附近，使得在缓冲层上沉积金属氧化物的混合物形成前驱膜。前驱膜首先经过低氧分压环境，然后经过较高氧分压环境中，形成具有四方相的超导膜。四方相的超导膜经过吸氧后，完成四方相向正交超导相转变，形成具有一定载流性能的超导带材。本发明中，超导薄膜是通过多源离子枪喷射沉积的技术方案实现。通过差分氧分压技术，实现快速生成超导相和热处理等工艺。该技术具有镀膜效率高，薄膜生长速率快，能够精确控制膜成分和均匀度，成本低等优点，适用于工业大规模生产。