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磁控溅射镀膜设备及ITO玻璃的制备方法

基本信息

申请号	2020111377350	申请日	-
公开（公告）号	CN112251727A	公开（公告）日	2021-01-22
申请公布号	CN112251727A	申请公布日	2021-01-22
分类号	C23C14/35(2006.01)I;	分类	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人	朱汪根;张见平;许波;胡松;吴俊保;冯治国	申请（专利权）人	凯盛信息显示材料（黄山）有限公司
代理机构	昆明合众智信知识产权事务所	代理人	叶春娜
地址	245400安徽省黄山市休宁县经济开发区高新电子信息产业园孵化器
法律状态	-

摘要

本发明公开了一种磁控溅射镀膜设备及ITO玻璃的制备方法，包括镀膜室，所述底座板上固定设置有液压缸和两个支撑杆，所述弧形吸附垫套设在筒状磁控靶材中；所述完全齿轮的侧面啮合设置有单齿齿轮；所述齿轮盘上固定设置有实心隔板和中空隔板，所述中空隔板中对称活动设置有滑杆，所述滑杆远离齿轮盘圆心的一侧固定设置有清洁刷，所述推杆固定于弧形电磁板上，所述中空隔板的中心处设置有电磁杆。本发明提供了磁控溅射镀膜设备，靶材可以随着工件的旋转间歇性地转动一定角度，也可以调整其倾斜角度，适应多种镀膜需要，且屏蔽罩间距可调，可在溅射镀膜的同时清洁溅射通道，本发明还提供了上述磁控溅射镀膜设备的ITO玻璃的制备方法，非常值得推广。