连续真空磁控溅射镀膜装置及镀膜生产线
基本信息
| 申请号 | 2020111394939 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112251728A | 公开（公告）日 | 2021-01-22 |
| 申请公布号 | CN112251728A | 申请公布日 | 2021-01-22 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I; | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 朱汪根;张见平;许波;胡松;吴俊保;冯治国 | 申请（专利权）人 | 凯盛信息显示材料（黄山）有限公司 |
| 代理机构 | 昆明合众智信知识产权事务所 | 代理人 | 周勇 |
| 地址 | 245400安徽省黄山市休宁县经济开发区高新电子信息产业园孵化器 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种连续真空磁控溅射镀膜装置及镀膜生产线，包括交替镀膜单元和变速转动单元，所述正极接电环板和负极接电环板间活动设置有相对的溅射靶一和溅射靶二，所述从转齿轮一和从转齿轮二的轮齿互补，所述驱动转杆上固定连接有若干大小不同的变速转轮，所述调节杆两侧开设有空槽，所述空槽内部固定设置有调节机构，本发明在使用中，通过正极接电环板和负极接电环板的设置，实现对带镀膜件的两侧进行交替镀膜并中和靶面上积累的阳离子，并通过多个大小不同的变速转轮、多个主转齿轮二和调节机构的设置，使得带镀膜件两侧的镀膜厚度不同，满足不同的工艺要求，扩大装置的应用范围。 |
