一种红外辐射敏感的阳图型可成像元件及其形成图像的方法
基本信息
| 申请号 | CN201911408294.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111158214A | 公开（公告）日 | 2020-05-15 |
| 申请公布号 | CN111158214A | 申请公布日 | 2020-05-15 |
| 分类号 | G03F7/09;G03F7/004 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 翁银巧;陶烃;高邈;徐能平;应作挺;马显瑶;焦乐泽 | 申请（专利权）人 | 浙江康尔达新材料股份有限公司 |
| 代理机构 | 温州瓯越专利代理有限公司 | 代理人 | 浙江康尔达新材料股份有限公司 |
| 地址 | 325000 浙江省温州市工业园区机场大道929号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种红外辐射敏感的阳图型可成像元件，所述的可成像元件包含:（a）底基、（b）覆盖在底基上方的内涂层、（c）覆盖在内涂层上方的外涂层。所述的内涂层包含一种衍生自马来酰亚胺单体和（甲基）丙烯酰胺单体的重复单元、并且可溶于碱性显影液的聚合物粘结剂P；所述的外涂层包含一种红外辐射吸收化合物和一种不同于内涂层的聚合物粘合剂Q。如此设计使得该可成像元件不仅可对最大波长为700~1200 nm的辐射敏感，而且当其用作平版印刷版前体时对化学溶剂具有良好的耐抗性，在使用过程中不易发生被印刷化学品侵蚀、溶解的现象，从而有利于延长平版印刷版的使用寿命。 |
