一种用于化学气相沉积工艺的衬底及石墨盘
基本信息
| 申请号 | CN201320326603.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN203346473U | 公开（公告）日 | 2013-12-18 |
| 申请公布号 | CN203346473U | 申请公布日 | 2013-12-18 |
| 分类号 | C23C16/458(2006.01)I;C23C16/00(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 田益西 | 申请（专利权）人 | 光垒光电科技（上海）有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 | 代理人 | 杨林;马翠平 |
| 地址 | 200050 上海市长宁区延安西路889号1106B室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供用于化学气相沉积工艺的石墨盘和衬底，其特征在于：所述衬底形状呈扇形，为了能够利用现有的圆形衬底制作，扇形衬底的扇形圆心角为360°/N，N为大于等于2且小于等于6的自然数。本实用新型还提出了一种石墨盘，具有衬底承载面，所述衬底承载面设有用于容置所述衬底的收容槽。本实用新型提供的扇形衬底在石墨盘上可以排列的比圆形衬底更为紧密，提高了石墨盘的利用率，提高了化学气相沉积设备的产量；且相对于多边形衬底，本实用新型提供的扇形衬底可以由一个圆形衬底分割而成，既便于加工制作，又避免衬底材料的浪费，降低了生产成本，满足了应用的要求。 |
