进气装置
基本信息
| 申请号 | CN201320504645.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN203653689U | 公开（公告）日 | 2014-06-18 |
| 申请公布号 | CN203653689U | 申请公布日 | 2014-06-18 |
| 分类号 | C23C16/455(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 谭华强;乔徽;林翔;苏育家 | 申请（专利权）人 | 光垒光电科技（上海）有限公司 |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 郑玮 |
| 地址 | 200050 上海市长宁区延安西路889号1106B室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种进气装置。包括层叠设置的主体部分和热壁层，所述主体部分包括第一气体腔室，所述主体部分和热壁层之间的区域构成第二气体腔室，所述第一气体腔室具有第一气体管路、所述第二气体腔室具有第二气体管路，所述第一气体管路和第二气体管路的出气口之间引入有隔离气体。相比而言，本实用新型能够吸收由进气装置下方的托盘产生的热量，使得在进气装置下表面的预反应生成的颗粒会变得致密，不容易脱落到托盘上而形成颗粒沾污；而且，第一气体管路和第二气体管路的出气口之间引入有隔离气体，能够减少或避免在热壁层处发生预反应，既能够减少颗粒污染的产生，又能够提高反应气体的利用率。 |
