一种卧式多靶真空溅射或离子镀膜机
基本信息
| 申请号 | CN201310177002.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN103290373B | 公开（公告）日 | 2016-09-14 |
| 申请公布号 | CN103290373B | 申请公布日 | 2016-09-14 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 周小平;翁惠军;杨庆忠 | 申请（专利权）人 | 宁波韵升装备技术有限公司 |
| 代理机构 | 宁波天一专利代理有限公司 | 代理人 | 宁波韵升股份有限公司;宁波韵升机电设备有限公司;宁波韵升磁体元件技术有限公司;宁波韵升装备技术有限公司 |
| 地址 | 315040 浙江省宁波市高新区扬帆路1号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种卧式多靶真空溅射或离子镀膜机，包括镀膜机炉体、镀膜机中的传动输出部件、弧靶、溅射靶、真空抽吸口和工件架，镀膜机炉体内分为二个区域，区域一布置多个弧靶，多个弧靶设置在镀膜机炉体的下方靠近镀膜机炉体内壁，区域二布置多个溅射靶，多个溅射靶设置在镀膜机炉体中心上方的对应工件架中空位置的镀膜机炉体内腔中，工件架设置放置工件的转动件和动力输入机构，工件架进入镀膜机炉体内时转动件可以在弧靶和溅射靶之间通过，工件架的动力输入机构与镀膜机中的传动输出部件耦合而带动转动件转动，镀膜机炉体中心或靠近中心设有真空抽吸口。本发明有效防止弧靶与溅射靶的相互污染，提高了镀层效率和镀层质量。 |
