一种精密定位平台绝对定位精度的测量及补偿方法
基本信息
| 申请号 | CN201410425856.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN104199257B | 公开（公告）日 | 2016-08-24 |
| 申请公布号 | CN104199257B | 申请公布日 | 2016-08-24 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 李香滨 | 申请（专利权）人 | 合肥芯硕半导体有限公司 |
| 代理机构 | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 | 代理人 | 合肥芯硕半导体有限公司 |
| 地址 | 230601 安徽省合肥市经开区锦绣大道68号合肥芯硕半导体有限公司 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种精密定位平台绝对定位精度的测量及补偿方法，具体做法是将掩膜板放置在已知定位精度很高的光刻设备上，在其上曝光具有规则排列的多个Mark，刻蚀后，利用此掩膜板、CCD成像技术和图像匹配技术测量精度较差的定位平台，并将测量得到的误差补偿给平台控制器，以提高平台的定位精度。本发明利用在掩膜板曝光定位标记进行测量并补偿，比传统的激光干涉仪测量和补偿成本低、易操作；利用图像匹配法进行测量和补偿，测量精度高，误差为1/20像素，即4.65um/22.3/20,约10nm；可以有效补偿并校准定位平台的二维定位精度。 |
