获取激光直接成像设备的最佳焦面距离的方法

基本信息

申请号 CN201410586389.2 申请日 -
公开(公告)号 CN105549346A 公开(公告)日 2016-05-04
申请公布号 CN105549346A 申请公布日 2016-05-04
分类号 G03F9/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I 分类 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
发明人 严孝年;吴飞;王本祥;何少峰;方林;朱光伟;陈和明 申请(专利权)人 合肥芯硕半导体有限公司
代理机构 合肥金安专利事务所 代理人 徐伟
地址 230601 安徽省合肥市经济开发区锦绣大道68号
法律状态 -

摘要

摘要 针对激光直接成像设备的曝光焦面难以精确快速获取的难题,本发明提供一种获取激光直接成像设备的最佳焦面距离的方法,包括:向激光直接成像设备输入焦面检测图形的步骤;安装并调试基板的步骤;对基板进行初次曝光的步骤;对基板进行第一次移位曝光的步骤;重复对基板进行移位曝光的步骤;对基板进行显影的步骤;找出基板上脱落最少图形的步骤。有益的技术效果:本发明省去了传统方法中所必须的采用显微镜测量线宽的检测步骤,能够快速、直观、精确地找到最佳的曝光焦面,一方面提高了焦面的检测效率和准确度,另一方面,也降低了PCB由于曝光不足造成的报废风险。