一种激光直接成像设备成像位置误差的测量方法及系统
基本信息
| 申请号 | CN201910534140.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110320762B | 公开（公告）日 | 2021-08-13 |
| 申请公布号 | CN110320762B | 申请公布日 | 2021-08-13 |
| 分类号 | G03F7/20（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 尤勇;严孝年 | 申请（专利权）人 | 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 |
| 代理机构 | 合肥天明专利事务所（普通合伙） | 代理人 | 奚华保 |
| 地址 | 230088安徽省合肥市高新区创新大道2800号创新产业园二期F3楼11层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种激光直接成像设备成像位置误差的测量方法及系统，属于印刷电路板图形转移技术领域，包括：将待检测的拼接误差测量图形输入至激光直接成像设备；在激光直接成像设备的曝光工作台上放置一块基板，并将拼接误差测量图形的形貌投影在所述基板上，以对基板进行曝光成像；将投影成像后的基板固定在可测量MARK圆中心坐标的测量设备上，并利用测量设备测量出三个MARK圆的中心坐标；根据三个MARK圆的中心坐标，计算拼接误差测量图形的拼接处误差。本发明极大的提高了测量效率和测量准确性，并且适用范围较大。 |
