一种用以制备无源器件的自动化设备及制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202110806618.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113529056A | 公开（公告）日 | 2021-10-22 |
| 申请公布号 | CN113529056A | 申请公布日 | 2021-10-22 |
| 分类号 | C23C16/46;C23C16/458 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 张建星;郑礼英 | 申请（专利权）人 | 中科微光子科技（成都）有限公司 |
| 代理机构 | 成都言成诺知识产权代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 幸凯 |
| 地址 | 610000 四川省成都市双流区成都芯谷产业园区集中区内 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及无源器件自动加工领域，具体是涉及一种用以制备无源器件的自动化设备及制备方法，包括工作台、反应腔、固定组件、旋转组件和制备机构，将半导体衬底放入其中一个反应腔中，通过固定组件使得半导体衬底无法移动，通过反应腔提供制备的密闭空间，同时启动旋转组件和第一制备组件，旋转组件驱动固定组件转动，第一制备组件在反应腔充入化学气体，在半导体衬底表面上进行化学反应生成绝缘介质层，完成后将半导体衬底取出放入另一个反应腔内，通过第二制备组件在反应腔充入化学气体，在半导体衬底的绝缘介质层上表面上形成金属层，从而获得无源器件样品，操作简单，同时两个反应腔分别制备，提高了制备的效率。 |
