投影曝光系统及其控制方法
基本信息
申请号 | CN202210289127.4 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN114755894A | 公开(公告)日 | 2022-07-15 |
申请公布号 | CN114755894A | 申请公布日 | 2022-07-15 |
分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B5/30(2006.01)I;G02F1/1337(2006.01)I | 分类 | 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕; |
发明人 | 常文博;李月;肖月磊;安齐昌;曹雪;冯昱霖;韩基挏;周毅;王立会;魏秋旭;吴艺凡;曲峰 | 申请(专利权)人 | 北京京东方光电科技有限公司 |
代理机构 | 北京市立方律师事务所 | 代理人 | - |
地址 | 100176北京市北京经济技术开发区西环中路8号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本申请提供了一种投影曝光系统及其控制方法,投影曝光系统包括:沿第一方向依次设置的光源、液晶开关面板、液晶相位延迟器和相位延迟波片;液晶开关面板包括多个阵列排布的液晶微区开关,用于将光束转换为第一线偏振光,并控制第一线偏振光是否通过进行控制;液晶相位延迟器用于将第一线偏振光的垂直分量和平行分量产生各自的相位延迟,使得垂直分量和平行分量具有设计相位差;相位延迟波片用于将液晶相位延迟器输出的光产生相位延迟,得到并输出第二线偏振光,第二线偏振光的方位角与设计相位差存在对应关系。采用本申请,无需昂贵的掩膜费用,可大面积、高效率、高精度实现液晶取向微区控制,具有低成本、可实时控制调谐等优势。 |
