一种磁场可变电弧调整沉积装置
基本信息
申请号 | CN201721554216.8 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN207596948U | 公开(公告)日 | 2018-07-10 |
申请公布号 | CN207596948U | 申请公布日 | 2018-07-10 |
分类号 | C23C14/32 | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 付德君;李娜;曾晓梅 | 申请(专利权)人 | 武汉江海行纳米科技有限公司 |
代理机构 | 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人 | 王维 |
地址 | 430000 湖北省武汉市大学园路20号普天科技园1楼 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型公开了一种磁场可变电弧调整沉积装置,涉及真空物理气相沉积技术领域,该装置包括支撑杆、阴极靶材和组件。阴极靶材固定于所述支撑杆一端。组件组设于支撑杆上,且所述组件包括线圈和电流调节装置,所述电流调节装置用于调节线圈内部电流大小,使所述阴极靶材在表面收到的磁场保持不变。本实用新型的驱动件通过不断调整线圈电流的大小,保证了阴极靶材表面的磁场稳定不变,从而控制电弧位置强度,形状,最终使得靶材能够准确稳定的沉积在工件表面。 |
