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一种OLED制程提高光刻胶剥离效果的方法

基本信息

申请号	CN202010499955.1	申请日	-
公开（公告）号	CN111628117A	公开（公告）日	2020-09-04
申请公布号	CN111628117A	申请公布日	2020-09-04
分类号	H01L51/56(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I	分类	基本电气元件;
发明人	胡璐	申请（专利权）人	南京华易泰电子科技有限公司
代理机构	北京盛凡智荣知识产权代理有限公司	代理人	南京华易泰电子科技有限公司
地址	210043江苏省南京市江北新区智能制造园博富路10号
法律状态	-

摘要

本发明专利公开了一种OLED制程提高光刻胶剥离效果的方法，其方法包括如下步骤：首先在OLED基板上涂覆一层光阻层(PR)；对涂覆光阻层的基板上方，用掩膜版覆盖，从上方进行曝光照射，使该区域的光刻胶发生光化学反应，将掩膜版阻挡的部位定义为A；OLED基板上被掩膜版阻挡的部位A区域的光刻胶溶解脱落；本发明专利通过干刻蚀法对表面蒸镀OLED功能层的基板进行处理，使得剥膜液可以顺利在OLED功能层未覆盖的光阻裸露区域与其接触，达到有效去除光阻目的，解决了目前采用的OLED蒸镀制程工艺在进行蒸镀后光刻胶难剥离，容易造成光刻胶无法顺利去除，从而影响后续制程的问题，避免了OLED显示器产生像素点缺色形成黑点，造成显示不良的情况。