一种具有旋转功能的基片清洗设备
基本信息
| 申请号 | CN202120306358.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214417179U | 公开（公告）日 | 2021-10-19 |
| 申请公布号 | CN214417179U | 申请公布日 | 2021-10-19 |
| 分类号 | B08B3/12（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I;F26B21/00（2006.01）I | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 冀然 | 申请（专利权）人 | 青岛天仁微纳科技有限责任公司 |
| 代理机构 | 山东重诺律师事务所 | 代理人 | 王鹏里 |
| 地址 | 266109山东省青岛市城阳区城阳街道祥阳路106号青岛未来科技产业园6号厂房 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种具有旋转功能的基片清洗设备，框架的内部装配有排液排气单元，框架内腔中部固定装配有旋转真空台盘，框架内部左侧装配有清洗单元，排液排气单元上部底面装配有风洗单元；超声波发生器产生高能声波，通过超声振板传递到清洗液中，清洗液分子在这种声波的推动下作加速运动，连续冲击基片表面，使基片表面吸附的颗粒等污染物离开基进入溶液中；方案利用清洗单元清洗完成后，可以通过风洗单元对基片进行吹干，防止二次污染；方案采用旋转真空台盘吸附固定基片，旋转真空台盘能够倾斜某个角度，相比基片保持水平放置清洗，基片倾斜，基片表面的颗粒物更容易从基片上随清洗液流走。 |
