一种基于光学透明基材进行双面图案化的方法
基本信息
| 申请号 | CN202111114879.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113867108A | 公开（公告）日 | 2021-12-31 |
| 申请公布号 | CN113867108A | 申请公布日 | 2021-12-31 |
| 分类号 | G03F7/20（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 郭景华;王钧;江建国 | 申请（专利权）人 | 浙江鑫柔科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京市中伦律师事务所 | 代理人 | 王奕勋 |
| 地址 | 314500浙江省嘉兴市桐乡市乌镇镇经发路302号9幢一层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种基于光学透明基材进行双面图案化的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：（1）提供具有UV阻隔功能的光学透明基材；（2）在所述光学透明基材的两个表面上涂覆光阻材料；以及（3）将涂覆有所述光阻材料的所述光学透明基材在UV光的照射下曝光并进行显影，以得到双面图案化的光学透明基材。本发明所提供的基于光学透明基材进行双面图案化的方法可以避免从基材一边照射的UV光引起基材另一边的光阻材料发生光化学反应，继而实现一次性曝光实现双面图案化；并且所用到基材均为可卷对卷生产材料，从光阻材料的涂覆、材料的曝光、后续工艺皆可卷对卷，一次流程完成，这不仅显著提高了生产效率，且明显降低了生产成本。 |
