一种反应室及化学气相沉积设备
基本信息
| 申请号 | CN202220258919.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN216738523U | 公开（公告）日 | 2022-06-14 |
| 申请公布号 | CN216738523U | 申请公布日 | 2022-06-14 |
| 分类号 | C23C16/44（2006.01）I;C23C16/458（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 徐鑫;肖蕴章;陈炳安;钟国仿 | 申请（专利权）人 | 深圳市纳设智能装备有限公司 |
| 代理机构 | 北京超凡宏宇专利代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 518000广东省深圳市光明区凤凰街道凤凰社区观光路招商局光明科技园A6栋1B | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请提供了一种反应室及化学气相沉积设备，涉及半导体生产设备领域。所述反应室包括顶盖、底座及固定挡板，所述底座上设有凹槽，所述固定挡板上设有对应的凸块，所述凹槽与所述凸块配合，使所述固定挡板与所述底座固定连接，所述固定挡板用于遮挡所述底座的表面，所述凸块的长度和宽度均大于所述凸块插入所述凹槽的深度。所述化学气相沉积设备包括上述反应室。本申请的所述凸块在插入所述凹槽内或从所述凹槽内取出时，所述凸块不易折断；所述凸块受到热胀冷缩时不易断裂，避免所述挡板的意外滑动；所述凸块插入所述凹槽时容易对准，方便所述固定挡板安装于所述反应室内。 |
