一种反应室及反应装置
基本信息
| 申请号 | CN202111361303.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114717536A | 公开（公告）日 | 2022-07-08 |
| 申请公布号 | CN114717536A | 申请公布日 | 2022-07-08 |
| 分类号 | C23C16/32（2006.01）I;C23C16/458（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 肖蕴章;徐鑫;黄帅帅;刘亮辉;刘佳明;陈炳安;钟国仿 | 申请（专利权）人 | 深圳市纳设智能装备有限公司 |
| 代理机构 | 北京超凡宏宇专利代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 518000广东省深圳市光明区凤凰街道凤凰社区观光路招商局光明科技园A6栋1B | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种反应室及反应装置，包括中空发热件、旋转台、防护板组件及分隔件，所述旋转台可转动的设于所述中空发热件的内腔中，所述旋转台用于承载晶圆，所述防护板组件设于所述旋转台的两侧，所述分隔件架设于所述防护板组件上，所述分隔件用于与所述防护板组件配合，在所述内腔中分隔出反应腔，所述反应腔将所述旋转台包围，且所述内腔的表面不暴露于所述反应腔中。通过反应腔将托盘包围，使其不暴露于结构复杂、成本高昂的中空发热件内表面。反应气体从反应腔中流过沉积，不会在中空发热件表面产生沉积。仅需更换结构简单、成本较低的前防护板、后防护板与分隔件即可，维护便利性好，且降低了反应室维护的成本。 |
