一种镀膜设备
基本信息
| 申请号 | CN202111597018.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114717653A | 公开（公告）日 | 2022-07-08 |
| 申请公布号 | CN114717653A | 申请公布日 | 2022-07-08 |
| 分类号 | C30B25/14（2006.01）I;C30B25/18（2006.01）I;C30B29/36（2006.01）I | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
| 发明人 | 经军辉;肖蕴章;黄帅帅;陈炳安;钟国仿 | 申请（专利权）人 | 深圳市纳设智能装备有限公司 |
| 代理机构 | 北京超凡宏宇专利代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 518000广东省深圳市光明区凤凰街道凤凰社区观光路招商局光明科技园A6栋1B | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种镀膜设备，涉及化学气相沉积技术领域。镀膜设备包括壳体、机械手腔体、反应室、气路组件和驱动组件；壳体与机械手腔体相连，壳体上接有柔性管道；反应室位于壳体内，反应室朝向机械手腔体的一侧设有进气通道；气路组件穿设于柔性管道内，并与柔性管道密封连接，气路组件位于反应室朝向机械手腔体的一侧；驱动组件与气路组件相连。镀膜设备将气路组件和机械手腔体设置在反应室的同一侧，不影响机械手取放反应室内的物品，在维护时仅需将壳体远离机械手腔体的一端打开，即可取出反应室内部的零件进行打磨清洗，有效地降低了维护的总耗时。此外，机械手不经过副反应产物聚集区，避免疏松的副反应产物掉落在晶圆表面，提高产品良率。 |
