一种气浴装置及光刻机
基本信息
| 申请号 | CN201811158115.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110966916B | 公开（公告）日 | 2021-10-15 |
| 申请公布号 | CN110966916B | 申请公布日 | 2021-10-15 |
| 分类号 | G01B9/02（2006.01）I | 分类 | 测量；测试; |
| 发明人 | 李先明 | 申请（专利权）人 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 | 代理人 | 胡彬 |
| 地址 | 201203上海市浦东新区自由贸易试验区张东路1525号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种气浴装置及光刻机，属于光刻机技术领域。该气浴装置包括进风口、处理腔和出风口，所述出风口包括第一通道组和第二通道组，所述第一通道组和所述第二通道组朝靠近干涉仪方向依次设置，其中，所述第一通道组的气浴方向与水平面的夹角V大于所述第二通道组的气浴方向与水平面的夹角W。光刻机包括上述气浴装置。本发明通过设置气浴方向不同的第一通道组和第二通道组，实现对干涉仪中的测量光路和参考光路进行吹扫，使得干涉仪的参考光路也处于气浴温控区，保证了干涉仪测量结果的精确性。 |
