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一种激光退火装置及其退火方法

基本信息

申请号	CN201511021931.0	申请日	-
公开（公告）号	CN106935491B	公开（公告）日	2021-10-12
申请公布号	CN106935491B	申请公布日	2021-10-12
分类号	H01L21/268	分类	基本电气元件;
发明人	崔国栋;兰艳平;马明英;宋春峰;孙刚	申请（专利权）人	上海微电子装备（集团）股份有限公司
代理机构	上海思微知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	屈蘅;李时云
地址	201203 上海市浦东新区张东路1525号
法律状态	-

摘要

本发明公开了一种激光退火装置及其退火方法，该激光退火装置包括激光光源系统、与激光光源系统连接，位于硅片上方的激光调节系统、位于硅片上方，对硅片表面光斑位置处的温度进行实时测量的温度监控系统、分别与激光光源系统、激光调节系统、温度监控系统以及载片台连接的中央控制系统。本发明通过设置具有多个独立的激光器，提供波长不同的激光，对硅片进行联合退火，通过选择最佳的工艺参数组对硅片进行退火，不同波长的激光进行互补，不仅达到最佳的退火温度，而且很好的抑制了硅片表面的图像效应；通过温度监控系统的反馈机制和中央控制系统的调节机制，提高了退火的均匀性和可控性，降低了热预算，减少热扩散，提高了退火装置的工艺适应性。