一种氧化镁靶材背板的氧化铝涂层制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202110746747.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113416913A | 公开（公告）日 | 2021-09-21 |
| 申请公布号 | CN113416913A | 申请公布日 | 2021-09-21 |
| 分类号 | C23C4/134（2016.01）I;C23C4/11（2016.01）I;C23C14/35（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 王永超;居炎鹏;赵泽良;仝红岩;王留土;郑海强;史豪杰;陈耘田;郭利乐;刘占军;李伟 | 申请（专利权）人 | 河南东微电子材料有限公司 |
| 代理机构 | 郑州浩翔专利代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 李伟 |
| 地址 | 450000河南省郑州市航空港区新港大道与人民路交叉口智能终端手机产业园B区12号楼1、2层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种氧化镁靶材背板的氧化铝涂层制备方法，步骤包括：将氧化镁靶材溅射面、背板非喷涂面均用耐高温布包裹保护；清洗喷涂的部位；对喷涂部位进行喷砂处理；再次清洗喷涂部位；等离子喷涂工艺进行氧化铝喷涂；氧化铝涂层进行磨削抛光处理。本发明的氧化铝涂层能在磁控溅射中保护氧化镁靶材和背板，能有效避免焊接层料因发热而受损影响磁控溅射，延长氧化镁靶材使用寿命，对降低镀膜不良率，提高成膜质量起着至关重要作用。 |
