围坝层的抛光方法及围坝和陶瓷基板
基本信息
| 申请号 | CN202110570762.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113380633A | 公开（公告）日 | 2021-09-10 |
| 申请公布号 | CN113380633A | 申请公布日 | 2021-09-10 |
| 分类号 | H01L21/48（2006.01）I;B24B29/02（2006.01）I;B24B49/00（2012.01）I;H01L23/02（2006.01）I;H01L23/15（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 陈文阳;罗玉杰;于正国 | 申请（专利权）人 | 赛创电气（铜陵）有限公司 |
| 代理机构 | 铜陵市嘉同知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 吴晨亮 |
| 地址 | 244000安徽省铜陵市经济技术开发区天门山北道3129号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了围坝层的抛光方法及围坝和陶瓷基板，包括以下步骤：对围坝层进行补充电镀，将补充电镀后的围坝层基板正面朝上，基板背面嵌入无蜡垫内，使用游星轮进行两次抛光，每次抛光的高速阶段转速为28rpm，得到整平效果合格的围坝层。本发明的有益效果是通过对抛光工艺的改进，采用游星轮+无蜡垫的方式以及对抛光转速的调整可以实现对围坝正面的合格抛光。 |
