金属围坝的曝光显影方法及金属围坝和陶瓷基板
基本信息
| 申请号 | CN202110337255.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113192845A | 公开（公告）日 | 2021-07-30 |
| 申请公布号 | CN113192845A | 申请公布日 | 2021-07-30 |
| 分类号 | H01L21/48（2006.01）I;H01L23/13（2006.01）I;H01L23/15（2006.01）I;G03F7/20（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 王军;陈文阳;于正国 | 申请（专利权）人 | 赛创电气（铜陵）有限公司 |
| 代理机构 | 铜陵市嘉同知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 吴晨亮 |
| 地址 | 244000安徽省铜陵市铜陵经济技术开发区天门山北道3129号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了金属围坝的曝光显影方法及由此制得的金属围坝和陶瓷基板，将压至少三层膜后的围坝放在曝光机的曝光平台上，曝光平台增加遮光布开始曝光，曝光能量为1000mj/cm，显影次数为两次，显影速度0.75m/min，垫条高度1.2mm。本发明的有益效果是通过对曝光显影工艺的改进，调整曝光时间、垫条高度、显影次数和显影速度，可以对多层比如六层压膜的围坝进行符合要求的显影效果。 |
